EXACTUS^®光學高溫計主要設計用于OEM晶圓溫度測量應用，在非接觸式溫度測量方面具有顯著的性能優(yōu)勢。許多正在申請的**涵蓋了這些突破，這些突破在準確性、可重復性和穩(wěn)定性方面具有行業(yè)**的性能。我們的性能優(yōu)勢使我們能夠成功地測量許多應用中的過程

EXACTUS^®提供：

• 使用短波長進行低溫測量（25°C 或更高）
• 使用 200nm 紅外輻射測量低至 900°C 的單晶硅
• 精度高，分辨率高達0.001°C，精度高達1.5°C
• 速度高達每秒 1，000 個讀數(shù)
• 在任何給定波長下具有寬動態(tài)范圍
• 測溫重復性 0.1 oC , 溫漂不高于 0.1 oC 
• 精密度高, 分辨率達 0.01 oC , 測溫精度1.5 oC

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    典型應用

    硅晶生長	薄膜沉積
    激光/感應焊接	玻璃加工
    工業(yè)加熱

    
    

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